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電鍍鍍層檢測儀的特性

  若產(chǎn)生X-射線熒光是由于轉(zhuǎn)移一個電子進入K軌道，一個K軌道上的電子已事先被游離，另一個電子即代替他的地位，此稱之為K輻射。不同的能階轉(zhuǎn)換出不同的能量，如Kα輻射是電子由L軌道跳至K軌道的一種輻射，而Kβ輻射是電子從M軌道跳至K軌道的一種輻射，其間是有區(qū)別的。若X-射線熒光是一個電子跳入L的空軌域，此種輻射稱為L輻射。同樣的L輻射可劃分為Lα輻射，此是由M軌道之電子跳入L軌道及Lβ輻射，此是由N軌道之電子跳入L軌道中。由于Kβ輻射能量約為Kα的11%，而Lβ輻射能量較Lα大約20%，所以以能量的觀點Lα及Lβ是很容易區(qū)分的。

  電鍍鍍層檢測儀在開始測試時候進行幾次簡單的測試工作，不僅是確保設(shè)備的可用性(正常性)，同時也檢驗電鍍鍍層檢測儀各個接口是否符合標(biāo)準(zhǔn);

電鍍鍍層膜厚檢測

鍍層檢測儀的原理 

先對我們要了解XRF如何測量元素成分含量的： 

         一個元素的成分計算公式可以簡單用下面的公式表示：F?I=C,(這里C是樣品含量，F(xiàn)是光譜中此元素比例系數(shù)，I是此元素在光譜中的激發(fā)強度)，先標(biāo)樣中已知C(此處用百分比表示)，將此標(biāo)樣放入光譜，按著測試條件開X射線激發(fā)標(biāo)樣，此時得到一個I的值，C/I=F(這樣就能計算出此元素的含量輕度比列系數(shù))。 

電鍍鍍層檢測儀膜厚原理： 

        同理,Th=F?I （這里Th是厚度，單位微米或其他長度單位） 

        先也是用標(biāo)樣來標(biāo)定，求出此樣品的某元素鍍層厚度強度比F。 

        測試待測樣品時，用待測樣品的鍍層元素激發(fā)的I值乘以之前得到的F值，F(xiàn)?I=Th這樣就能計算出待測樣品的此元素鍍層厚度值。